受AI及高端芯片需求驅動，全球12英寸晶圓產能擴張提速。據國際半導體產業協會（SEMI）預測，2026年全球12英寸硅片需求將突破1000萬片/月，中國大陸地區需求量超300萬片。市場擴張為本土供應鏈企業帶來廣闊機遇，而超純水作為芯片制造不可或缺的“工業血液”，其供應能力與水質純度直接影響產能及產品良率。高頻科技作為聚焦于芯片制造等電子核心產業的超純水系統供應商，憑借“超純水質”與“高效節水”等核心優勢，為高端芯片制造提供全方位保障。

超純工藝，滿足半導體生產“芯”需求

芯片制造對超純水的純度要求堪稱“苛刻”，其電阻率需高達18.2MΩ·cm，且對水體中的溶解離子、總有機碳（TOC）、顆粒物及微生物等雜質的容忍度極低。任何微小的污染物都可能導致芯片電路短路、性能下降或直接失效。隨著制程工藝不斷向14納米、7納米乃至更先進節點演進，對超純水水質的要求也日益嚴苛。

高頻科技經過多年持續研發投入與工藝探索，其所設計研發的超純水系統涉及超過18項專業處理工藝環節、8次增壓提升，系統制備的超純水純度可達ppt級別，離子含量僅萬億分之一，可充分滿足下游芯片客戶對生產用超純水要求。憑借這一技術實力，高頻科技成為國內極少數能夠在芯片領域提供超純水系統的企業，亦是國內首家具備12英寸14納米芯片產線超純水制備能力的系統供應商。

高效節水，助力半導體企業降本增效

半導體制造是水資源密集型產業，巨大的耗水量對企業運營成本構成挑戰。數據顯示，制造8英寸晶圓每小時約耗水250立方米，而制造更先進的12英寸晶圓，每小時耗水量則高達500立方米。因此，水資源的高效利用與回收，對企業的經濟效益和可持續發展至關重要。

高頻科技通過雙重技術路徑提高水的循環利用：一方面掌握科學的純水制備與廢水處理工藝，深度去除水中雜質以滿足后續用水標準；另一方面憑借前瞻性設計能力，基于對制程工藝的深刻理解規劃整廠用水平衡，預留充足排水管路，可對制程機臺30多道廢水進行合理分流回用，并搭配適配設備及工藝實現更佳處理效果。當前，其設計的項目水平衡可實現整廠用水的制備回收率高達90%，顯著降低了企業對水資源的消耗與廢水排放總量，有效幫助半導體企業達成降本增效與可持續發展的雙重目標。

面對12英寸半導體產能快速增長的市場需求，高頻科技憑借先進的超純工藝與節水技術，提供穩定可靠的高純度用水保障及系統化水資源管理方案，有力支撐本土半導體企業產能擴張與可持續發展，贏得行業客戶廣泛認可與信賴。展望未來，高頻科技將持續深耕超純工藝研發創新，以持續可靠的解決方案響應市場增長需求，為中國高端芯片制造筑牢關鍵水資源保障。

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